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铜箔在石墨烯制备中的应用研究进展

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摘要

因石墨烯独特的结构和优异的性能,自发现以来一直是研究的热点.以铜箔为基底的化学气相沉积(CVD)法是目前制备石墨烯的一种重要方法.文章综述了石墨烯的主要制备方法及其存在的优缺点;对石墨烯以铜基底化学气相沉积法的生长机理、最新研究进展及在多个领域的应用前景进行了分析.

著录项

来源
《印制电路信息》 |2016年第9期|36-42|共7页
作者
孙云飞; 王学江; 宋佶昌; 杨祥魁;
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作者单位

山东金宝电子股份有限公司,铜箔研发中心,山东招远265400;

山东金宝电子股份有限公司,铜箔研发中心,山东招远265400;

山东金宝电子股份有限公司,铜箔研发中心,山东招远265400;

山东金宝电子股份有限公司,铜箔研发中心,山东招远265400;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类印刷电路;
关键词
铜箔; 石墨烯; 化学气相沉积; 综述;

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