GeSbTe薄膜的制备与表征

摘要

文章通过磁控溅射仪制备了GeSbTe薄膜,用原子力显微镜扫描形貌,并采用纳米压痕技术对其表征。通过分析加载曲线和卸载曲线,排除弹性形变、表面粗糙度、针尖曲率半径等因素的影响,得到60 nm厚的GeSbTe薄膜的硬度和弹性模量,为后期薄膜的制备和力学特性研究提供一定的依据。