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宿辉; 吴凯; 蒋可为; 赵亮;
黑龙江工程学院材料与化学工程学院,黑龙江哈尔滨 150050;
北京大学化学与分子工程学院,北京100871;
哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院,黑龙江哈尔滨150001;
表面活性剂; (Ni-P)-纳米(SiC)P化学复合镀; 纳米碳化硅; 正交试验;
机译:Ni-P基超声辅助纳米级化学复合镀层沉积速率的温度依赖性研究
机译:化学复合镀(Ni-P-SiC)层力学性能的实验研究
机译:表面活性剂对凸点下金属化电沉积Ni-P层的影响
机译:Ni-P / n-Al2O3化学复合镀液的镀液组成和镀层性能的研究
机译:纳米氮化物衬里和铟表面活性剂材料的原子层沉积在纳米级铜互连技术中的应用
机译:金纳米粒子掺入加油溶液表面活性剂层膜膜的影响
机译:纳米SiC在无电镀Ni-P纳米SiC复合电镀的分散
机译:mosi(sub 2)-siC纳米层复合材料的结构和力学性能表征
机译:单晶SiC基体,具有表观生长层的单晶SiC基体,SiC基体,碳供料基体和碳纳米材料的SiC基体
机译:碳化硅碳化硅去除SiC种子晶体上受影响的层的方法SiC种子晶体和SiC基质制造方法
机译:去除SiC籽晶的影响层的方法,SiC籽晶的制造方法及SiC衬底
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