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王惠三;
无;
薄膜沉积; 等离子体; 磁控溅射; 大面积基本;
机译:磁控溅射技术在铜粉基体上制备薄Fe-Cr-Ni涂层
机译:大面积成膜和批量生产技术的前沿-欧洲的脉冲磁控溅射技术
机译:含碳中间层在硅基底上制备大面积磁控溅射氧化铈薄膜
机译:磁控溅射在熔融聚合物基体上获得的X射线滤光片
机译:在透明大面积塑料基板上制造的非晶态水合硅薄膜晶体管的极低温材料和自对准技术
机译:磁控溅射沉积非晶碳膜的基体温度相关的微观结构和电子诱导的二次电子发射特性
机译:直流磁控溅射沉积在金属基体上的二氧化钛光催化活性研究
机译:大面积玻璃板上的防反射涂层。 1979年4月1日至1979年6月30日第2号季度技术报告。摩托罗拉第2366/2号报告
机译:具有可去除阳极的大面积基体的改进磁控溅射系统
机译:双磁控溅射装置用于大面积反应等离子体增强沉积,例如用于太阳能吸收器的金属条上的光吸收层或窗户玻璃上的热反射层
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