NH3等离子体预处理对PECVD产生的TiN涂层性能的影响

机译：NH {sub} 3等离子体预处理对通过等离子体增强化学气相沉积（PECVD）制备的TiN涂层的性能的影响

机译：硅太阳能电池等离子体增强化学气相沉积（PECVD）中NH3对原子层沉积（ALD）Al2O3的等离子体氮化

机译：NH3等离子体预处理对GaAs界面上等离子体增强化学气相沉积SiON性质的影响

机译：钠钙玻璃的等离子体预处理对PECVD制备的TiO / sub 2 /择优取向的影响

机译：PECVD反应器中的等离子体和粒子动力学建模。

机译：使用TDMATi和NH3的等离子TiN超薄膜的等离子体增强原子层沉积

机译：He等离子体预处理对NH3等离子体清洗铜表面时低k损伤的影响

机译：反应NH2 + pH3产生NH3 + pH2：绝对速率常数测量及其对木星大气中NH3和pH3光化学的影响

机译：使用由氟烃气体，产生NH3的气体和含碳氧气体的混合物产生的等离子体蚀刻介电层的方法

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机译：钝化和稳定Ti-PECVD处理室的方法以及Ti-PECVD / TiN-CVD组合处理方法和装置