基于反射光谱的单层抗反射膜的非在位膜厚精确控制

摘要

提出一种基于反射光谱分析的非在位膜厚控制技术,首先利用椭圆偏振光谱仪确定波长300～1 700 nm范围内的薄膜折射率,由此确定对应于特定波长（如1 550 nm）的最佳抗反射（AR）镀膜沉积条件。然后计算最佳AR镀膜厚度所对应的反射谱,得到相应的CIE标准色谱坐标。通过对比实测镀膜颜色和计算得到的最佳颜色,可以实现小尺寸器件端面上AR镀膜厚度的优化控制。利用这一方法,由等离子体增强化学气相沉积（PECVD）制备的SiNx单层AR镀膜,获得了4.4×10-4的反射率。