制备光刻胶用顶部抗反射膜的组合物、光刻胶用顶部抗反射膜和含氟组合物

摘要

本发明涉及先进光学材料技术领域，特别涉及一种制备光刻胶用顶部抗反射膜的组合物、光刻胶用顶部抗反射膜和含氟组合物。制备光刻胶用顶部抗反射膜的组合物，包括：含氟组合物、碱、酸、表面活性剂。含氟组合物包含含氟聚合物；含氟组合物包括分别包含n=1，2，3，4和≥5个含氟聚醚基团的含氟聚合物，上述含氟聚合物的含量分别为0‑10wt%、30wt‑68wt%、32wt‑60wt%、0‑15wt%和0‑8wt%；含氟组合物在制备光刻胶用顶部抗反射膜的组合物中的含量为1wt‑15wt％。抗反射膜能够避免光散射和驻波效应，同时组合物与光刻胶的pH匹配良好，改善了膜表面孔洞和均匀性及涂覆后中心点和边缘厚度差异较大的问题，提高光刻工艺的良品率。