利用近场衍射进行接近式衍射缩小曝光的方法

摘要

通过对接近式光刻中光通过掩模版后的近场衍射特性的计算机模拟分析和曝光实验，提出了一种新型的接近式衍射小曝光方法，适用于紫外和Ｘ射线的接近曝光技术条件下，实现缩小曝光，可使实现亚半微米线宽图形的曝光和使基掩模版制作更为容易；并且具有等量缩小和焦深大的特点。