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魏玉明; 陈长英; 陈麟;
上海理工大学上海市现代光学系统重点实验室,上海200093;
上海理工大学光电信息与计算机工程学院,上海200093;
微电子机械系统(MEMS); 各向异性 ; 刻蚀 ; 搅拌 ; 周期槽;
机译:LP-MOCVD法生长硅基薄膜太阳能电池中ZnO:B前触点的H_2 / CH_4混合气体等离子体后刻蚀工艺研究
机译:实验和数值模拟方法在干槽硅刻蚀工艺研究中的应用
机译:调整在电化学刻蚀的铜涂覆的硅基底上形成的纳米结构的氧化铜-多孔硅基体的结构,发光和润湿特性
机译:具有周期细小槽的硅基板上碳洋葱的润滑特性
机译:硅/硅锗化物异质结构的各向异性碳氟化合物等离子体刻蚀和等离子体刻蚀引起的侧壁损伤
机译:二氧化硅基牺牲模板的选择性刻蚀制备中孔烧结金属薄膜
机译:利用超低压电感耦合等离子体刻蚀制备Inp异质结构中的高纵横比双槽光子晶体波导
机译:单自对准刻蚀工艺制备三维硅基光子晶体结构。
机译:基于各向异性刻蚀的结构制造方法以及具有刻蚀面膜的硅基板
机译:制备结构部件的方法,其中通过各向异性湿法刻蚀形成特定的功能结构,即刻蚀槽,可用于生产单晶半导体
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