首页> 中文期刊> 《化工新型材料》 >化学水浴法制备ZnS薄膜及其光学性能

化学水浴法制备ZnS薄膜及其光学性能

         

摘要

以酒石酸与柠檬酸钠为络合剂,采用化学水浴法(CBD)沉积ZnS薄膜.利用X射线衍射仪(XRD)、X射线能谱仪(EDAX)、扫描电镜(SEM)、紫外-可见分光光度计(UV-Vis)研究ZnS薄膜的结构、组成、形貌及光学性能,利用透射光谱计算ZnS薄膜的光学禁带宽度(Eg).结果表明:ZnS薄膜呈立方相晶体结构,经过300℃熟处理1h的ZnS薄膜原子比为Zn:S=1:0.85,表面均一致密,在可见光区的平均透射率达到80%,光学禁带宽度为3.74ev,适合作为太阳能电池过渡层.

著录项

  • 来源
    《化工新型材料》 |2007年第10期|62-64|共3页
  • 作者

    崔占奎; 邹正光; 龙飞;

  • 作者单位

    桂林工学院有色金属及材料加工新技术教育部重点实验室,桂林,541004;

    桂林工学院有色金属及材料加工新技术教育部重点实验室,桂林,541004;

    桂林工学院有色金属及材料加工新技术教育部重点实验室,桂林,541004;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 化学;
  • 关键词

    化学水浴法; ZnS; 薄膜; 光学性能;

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号