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原子层沉积制备纳米TiO2薄膜研究进展

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摘要

原子层沉积技术(ALD)可制备出平滑、均匀可控的高质量薄膜,较传统制备方法而言,具有高度可控性和重现性,成为纳米二氧化钛(TiO2)薄膜制备的首要选择.从沉积温度、等离子体的增强作用、沉积载体、掺杂及应用等方面综述了ALD法制备纳米TiO2薄膜的相关研究进展.

著录项

来源
《化工新型材料》 |2016年第9期|28-29,32|共3页
作者
张王乐; 冯昊;
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作者单位

西安近代化学研究所,西安710000;

西安近代化学研究所,西安710000;

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正文语种 chi
中图分类
关键词
原子层沉积(ALD); TiO2薄膜; 掺杂;

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