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吕洪久;
机译:用于PDP的干膜抗蚀剂-描述了使用干膜抗蚀剂的优点,该干膜抗蚀剂支持PDP的成本更低,亮度更高,尺寸更小,当前存在的问题以及未来的发展趋势。
机译:从立式干膜光致抗蚀剂的直接聚合物微膜制造
机译:干膜光致抗蚀剂光刻的独立氮化硅微膜梁的容易改变
机译:膜组成对用于化学放大光致抗蚀剂表征的叉指电极性能的影响:分析含碱淬灭剂的光致抗蚀剂材料的方法
机译:打印型干膜光致抗蚀剂光刻
机译:干膜光致抗蚀剂为基础微制造:制造毫米波波导组分的一种新方法
机译:使用O2 / N2气体的60Hz非醌大气压等离子体的抗蚀剂和干膜抗蚀剂的表面改性
机译:将印刷线路产品加工转换为水性可加工干膜光致抗蚀剂。总结报告
机译:干显影的光敏干膜抗蚀剂,由其制成的阻焊膜以及使用干膜抗蚀剂的方法
机译:干膜抗蚀剂剥离剂组合物,以及使用该膜来去除干膜抗蚀剂的方法
机译:使用此支持膜的干膜抗蚀剂和干膜抗蚀剂支持膜
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