连续非均相沉淀法生长ZnO薄膜及其光致发光性能研究

摘要

将连续离子层吸附与反应法(SILAR)和液相非均相沉淀技术相结合,提出ZnO薄膜的连续非均相沉淀液相制备技术.以[Zn(NH3)4]2+络离子为前驱体,以玻璃和Si(100)为衬底,从90℃水溶液中沉积得到ZnO薄膜.XRD分析表明,所得薄膜为六方纤锌矿型多晶结构,沿(002)晶面择优取向.AFM测试表明,薄膜表面致密、均匀,ZnO粒子尺度约为200 nm～300 nm.在340 nm室温紫外光激发下,薄膜产生强的近紫外光发射(～390 nm)和若干较弱的深能级发射(～450 nm-500 nm).初步探讨了连续非均相沉淀法生长ZnO薄膜的机理.