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机译:脉冲激光沉积和超声喷雾热解生长ZnO薄膜的结构和光致发光性能比较
State Key Laboratory of High Performance Ceramics and Superfine Microstructures, Shanghai Institute of Ceramics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 200050, China;
zinc oxide; ultrasonic spray pyrolysis; pulsed laser deposition; photoluminescence; transmission electron microscopy;
机译:前驱体类型,沉积时间和掺杂浓度对超声喷雾热解ZnO和ZnO:Al薄膜的形貌,电学和光学性质的影响
机译:比较使用脉冲激光沉积在r-和c-Al_2O_3衬底上生长的未掺杂ZnO薄膜的结构,光学和电学性质
机译:氮掺杂剂源对脉冲喷雾热解沉积的ZnO薄膜结构,光致发光和电性能的影响
机译:TA的结构和光致发光性能:脉冲激光沉积技术生长的in_2O_3薄膜
机译:在脉冲冷却条件下通过脉冲激光沉积[和]自由基,氟代亚甲基和氯卡宾的荧光激发光谱和原子荧光测量方法生长的金属氧化物薄膜的结构特征,以及荧光寿命的测量。
机译:衬底温度和氧分压对脉冲激光沉积生长纳米晶铜氧化物薄膜性能的影响
机译:通过脉冲激光沉积生长的透明导电si掺杂ZnO薄膜的结构,电学和光学性质