原位分散聚合制备纳米PANI-SiO2薄膜的性能

摘要

采用纳米二氧化硅(SiO2)作空间稳定剂,通过苯胺的原位分散聚合在玻璃表面直接制备PANI-SiO2透明导电纳米复合膜.薄膜的表观形态和组成通过扫描电镜(SEM)、红外光谱分析(FTIR)、紫外可见光谱分析(UV-Vis)进行了表征.结果发现,薄膜的形成经历了成核、生长、生长饱和3个明显的过程,薄膜表面光滑致密,膜厚在3～300 nm;SiO2对薄膜表面质量有良好改善作用,对薄膜的导电率稍有影响.此外对成膜机理进行了讨论.