首页> 中文期刊> 《现代仪器与医疗》 >砷化镓抛光晶片表面沾污的二次离子质谱分析

砷化镓抛光晶片表面沾污的二次离子质谱分析

         

摘要

在砷化镓工艺过程中,很多失效问题与表面的沾污有关,二次离子质谱分析是表面分析的有力手段,本文提供一种用二次离子质谱分析检测砷化镓表面钠、钾和铝的沾污水平的测试方法。

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