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马农农; 何友琴; 李雨辰; 任殿胜;
电子材料研究所;
二次离子质谱; 砷化镓抛光晶片; 金属表面沾污;
机译:飞行时间二次离子质谱分析用于深度剖析金/硅和砷化镓多层样品的C_(60)〜+和Cs〜+溅射离子
机译:二次离子质谱法循环法研究砷化镓中的相对敏感性因子
机译:以Bi_3〜+为主要离子并结合Ar簇离子束进行表面刻蚀的Si晶片上Au纳米颗粒的动态二次离子质谱:刻蚀条件对表面结构的影响
机译:砷化镓晶片研磨和抛光过程中产生的富含砷的废物浆料的表征。
机译:半导体簇离子分析和锰在低温下在砷化镓中的扩散的飞行时间二次离子质谱研究
机译:光电效应加速了砷化镓晶片上的电化学腐蚀和纳米压印工艺
机译:在抛光镓砷化镓晶片后化学机械平坦化浆料中急性和慢性毒性胶体氧化钛纳米粒子
机译:碳注入气相外延砷化镓的电学,发光和sIms(二次离子质谱)表征
机译:用于生产砷化镓衬底晶片的掺杂砷化镓单晶的制备包括熔化砷化镓起始材料,然后使砷化镓熔化
机译:用于制造砷化镓单晶晶片的硅掺杂砷化镓单晶锭,当砷化镓的凝固速率在预定范围内时,具有特定的结晶平均值
机译:晶片的大表面直接键合的工艺,例如砷化镓晶片包括使用分子氢或原子氢对晶片进行最终清洁,并使清洁后的晶片表面相互接触
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