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纳米间隙电极的加工研究进展

         
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摘要

分类介绍了国内外加工纳米间隙电极的主要研究进展,并特别介绍了近期发展起来的一般光刻技术结合选择性化学沉积方法制备纳米间隙电极的研究结果,对今后的相关研究问题进行了讨论.采用选择性化学沉积技术制备镍双电极的间隙已可小于100 nm.该技术对于制备纳米间隙电极具有一定的优势.

著录项

  • 来源
    《微细加工技术》 |2003年第4期|1-8,26|共9页
  • 作者

    顾宁; 黄岚; 徐丽娜; 王孟; 廖建辉;

  • 作者单位

    东南大学纳米科学与技术研究中心分子与生物分子电子学教育部重点实验室,南京,210096;

    东南大学纳米科学与技术研究中心分子与生物分子电子学教育部重点实验室,南京,210096;

    东南大学纳米科学与技术研究中心分子与生物分子电子学教育部重点实验室,南京,210096;

    东南大学纳米科学与技术研究中心分子与生物分子电子学教育部重点实验室,南京,210096;

    东南大学纳米科学与技术研究中心分子与生物分子电子学教育部重点实验室,南京,210096;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 半导体器件制造工艺及设备;
  • 关键词

    纳米间隙电极; 光刻; 化学沉积;

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