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取向硅钢细化磁畴技术专利分析

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摘要

通过对细化磁畴技术在全球的专利申请情况的分析,得出细化磁畴技术的发展特点、专利公开国、主要研究区域、主要专利权人、各主要企业的竞争力等信息,并且对JFE、新日铁住金、浦项钢铁和宝钢的研发方向进行了简要阐述.

著录项

来源
《冶金信息导刊》 |2016年第3期|52-56|共5页
作者
王媛;
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作者单位

武钢研究院武汉 430080;

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正文语种 chi
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关键词
取向硅钢; 激光刻痕; 电子束刻痕;

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