基片下磁场对溅射薄膜宏观形貌的影响

摘要

通过屏蔽传统磁控溅射设备阴极内的磁场和在基片下放置永磁铁，使来自基片下的磁场发挥作用，研究了此外加磁场在溅射过程中对薄膜沉积所产生的影响。用这种方法沉积出的Cu、Al的薄膜的宏观形貌为：膜的中央有一圆斑，在圆斑的外围有环。Al薄膜的中央圆斑处没有物质，为空白圆斑；而Cu薄膜的中央圆斑处有物质。对这一实验现象的产生机理，初步认为是成膜粒子在磁场中表现出的波动性。