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TiO2薄膜发展现状及APCVD制备掺氮TiO2性能研究

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摘要

概述了TiO2的国内外发展现状,从原理、改性等方面详细介绍了TiO2的光催化特性,并对TiO2的制备方法进行了总结概括.用APCVD法所做的气体流量系列掺氮TiO2样品进行测试分析发现,氮已经掺入TiO2中,氮的掺杂改善了薄膜表面的亲水性能.

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来源
《材料导报》|2006年第z1期|57-61,74|共6页
作者
王薇薇; 郭玉; 张溪文; 韩高荣;
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作者单位

浙江大学硅材料国家重点实验室,杭州,310027;

浙江大学硅材料国家重点实验室,杭州,310027;

浙江大学硅材料国家重点实验室,杭州,310027;

浙江大学硅材料国家重点实验室,杭州,310027;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类化学;
关键词
光催化性; 掺氮; TiO2; 薄膜; APCVD;
入库时间 2023-07-24 19:30:10

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