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尹立峰; 王思青; 张长瑞; 崔岩; 徐晓燕;
1. 国防科学技术大学航天与材料工程学院新型陶瓷纤维及其复合材料国防科技重点实验室 2. 中国航空工业济南特种结构研究所;
LPCVD; 氮化硅涂层; 沉积速率;
机译:PECVD对高沉积速率的影响对碳膜的影响和PEMFC金属双极板的高沉积速率和高稳定性
机译:在MPCVD期间高沉积速率在高沉积速率下电场和放电等离子体对电场和放电等离子体的影响
机译:沉积速率对使用非常高频PECVD微晶硅薄膜生长机理的影响
机译:TC4钛合金表面CVD钨复合涂层的制备工艺及性能研究
机译:制备工艺对锌双丝电弧喷涂涂层在钢上结合强度的影响。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:射频增强等离子体化学气相沉积(RF pECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性质和沉积速率的影响
机译:单丝CVD反应器性能和沉积速率的数值和实验分析
机译:基于Ti-Al-N的多层涂层化学气相沉积(CVD)制备工艺
机译:沉积速率监控器设备,蒸发器,涂层设备,将蒸气施加到基板上的方法以及操作沉积速率监控器设备的方法
机译:沉积速率监测装置,蒸发器,涂层的安装,将蒸气施加到基质上的方法和操作沉积速率监测装置的方法
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