抛光缎带二次型断面对压力场创成影响机制的交叉实验研究

摘要

磁流变抛光缎带二次型断面几何形状及嵌入深度是影响磁流变抛光过程压力场大小的重要因素。文章通过建立平面、球面和凸面3种实验模型,对实验断面嵌入深度和形状进行交叉组合对比实验。对比不同形状的二次型断面对磁流变抛光压力场创成的影响;探究嵌入深度改变的情况下其对抛光缎带压力场强度创成的影响及抛光缎带去除效率的影响。实验结果表明,凸面二次型断面在不同嵌入深度下的整体压力值为3个模型中最大;在平面二次型断面中,嵌入深度与压力场的水平呈现正相关;在球面二次型断面模型中,随着球面二次型断面嵌入深度的不断改变,其压力值呈现出集中分布的现象,仅有极少数区域压力值偏离压力值集中分布区,压力值集中分布区域为5.57~8.24 MPa;在凸面二次型断面模型中,凸面二次型断面嵌入深度与整体压力值也呈现正相关的关系。