气流分布对MOCVD HgCdTe组份均匀性的影响

摘要

本文报导用特殊方法观察到气流在MOCVD反应室里的分布形态,并以此为根据,通入不同流量的有机物生长HgCdTe。测试结果表明:气体流量对HgCdTe材料组份均匀性影响很大。在一个适当的流量下,能生长出良好的HgCdTe。