光系统Ⅱ的抑制增强N基因介导的抗性但减弱烟草非寄主抗性

摘要

以除草剂敌草隆为光合作用电子传递系统中光系统Ⅱ的抑制物, 携带抗病基因/无毒基因互补基因对N/P50的杂交一代烟草为植物基因对基因抗病性研究材料, 以及炭疽菌薏苡分离物及其非寄主植物烟草为非寄主抗病性研究系统, 研究了光照通过光合作用途径对植物基因对基因抗病性和非寄主抗病性的影响. 结果显示, 23.3 mg·L-1敌草隆处理加速N/P50烟草苗中过敏性反应的产生. 原本为烟草非病原的炭疽菌薏苡分离物成功侵染经23.3 mg·L-1敌草隆处理的非寄主植物的烟草, 形成细小炭疽病病斑. 但病斑扩大受到明显限制,不产生大量分生孢子. 因此, 光系统Ⅱ介导的途径减弱N介导的抗性, 但增强烟草对炭疽菌薏苡分离物的非寄主抗性. 这些结果表明, 光系统Ⅱ介导的途径影响多种形式的抗病性, 并且对不同形式抗病性的影响作用不同.