硅烷CVD法在钢基体表面生成硅扩散涂层

摘要

采用硅烷(SiH4)直接分解的化学气相沉积技术(CVD),在钢基体表面生成硅扩散涂层。X射线衍射(XRD)分析表明硅扩散涂层的主要成分是铁的硅化物FeSi。用扫描电子显微镜(SEM)对其形貌进行表征,发现涂层颗粒之间相互紧密粘结。金相照片显示,涂层与基体之间没有明显的界面,形成良好的扩散结合。