SiO2/PVDF阳离子膜的微观形态、力学和热稳定性能研究

摘要

以掺混法合成了SiO2/PVDF阳离子膜.采用强度测定仪、扫描电子显微镜（SEM）、透射电子显微镜（TEM）、差示扫描量热法（DSC）研究了不同二氧化硅纳米颗粒添加量的SiO2/PVDF阳离子膜的微观形态、机械稳定性和热稳定性.结果表明：随着纳米SiO2颗粒质量分数的增加,SiO2/PVDF阳离子膜的拉伸强度和断裂伸张率先增后降,当SiO2颗粒质量分数为PVDF的1.5％时,拉伸强度（26.2343N）和断裂伸张率（9.76％）最大.SiO2/PVDF阳离子膜的热稳定性温度最高可达300℃,阳离子膜微观断面结构变得更加致密,表面无明显相分离.