平面曝光型光造型装置的研究

摘要

微型光造型法的一个很大的缺点是构造物的制造时间长.为了解决这一问题,在报告微型光固化立体成型法现状的基础上,提出了一种新颖的平面曝光型光造型方案,设计并制作了实验装置,利用热敏色带制作微型平面掩膜,进行了平面固化成型实验.实验结果表明, 利用平面曝光型光造型方案进行成型,单层硬化时间可缩短至120 s.