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曹旸; 蒋昌忠; 王取泉; 范湘军;
武汉大学物理科学与技术学院;
离子注入; 透射率; 铜; 石英玻璃; 金属纳米颗粒; 退火; 吸收增强效应;
机译:X射线吸收精细结构研究(Br + Cu)离子注入石英玻璃中Cu-Br键的形成
机译:Cu离子注入与退火后升温金刚石表面形态和电子场发射的影响
机译:Zn离子注入石英玻璃热退火前后的电子结构和光致发光性能
机译:(Cu +卤素或硫族元素)离子注入石英玻璃中Cu离子的结构
机译:离子注入半导体上毫秒激光退火的研究及其在规模化finfet技术中的应用。
机译:纳米压痕和透射电镜研究氦离子注入EUROFER97和EU-ODS EUROFER的辐照后退火后的空腔命运
机译:100 keV Cu和Ag离子注入后Cu的浅层和深层损伤研究
机译:YBa sub 2 Cu sub 3 O sub X的高T亚C单晶的离子注入和热退火。
机译:等离子体浸泡离子注入和热退火后确定半导体衬底的薄层电阻的方法
机译:等离子体浸渍和热退火前离子注入后测定半导体基体方电阻的方法
机译:等离子体浸没离子注入和热退火后测定半导体基体抗剪强度的方法
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