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冯宇烜; 陈西宁; 周艳文;
辽宁科技大学材料与冶金学院表面工程研究所;
等离子增强磁控溅射; 氮化物陶瓷薄膜; 力学性能; 膜基结合强度;
机译:通过混合反应磁控溅射/等离子增强化学气相沉积工艺合成的WC / C:H膜:替代基于Cr(VI)的硬铬镀层
机译:等离子增强磁控溅射沉积的厚氮化物和碳氮化物涂层的耐蚀性
机译:硅的添加对射频等离子体辅助反应磁控溅射沉积氮化铬涂层结构和性能的影响
机译:氮化铬涂层通过电感耦合等离子体辅助RF磁控溅射
机译:在AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管上进行等离子增强化学气相沉积的氮化硅钝化的热稳定性。
机译:N2:(N2 + CH4)比在低温等离子体增强化学气相沉积法生长疏水纳米结构氢化氮化碳薄膜中的作用研究
机译:远程等离子体增强化学气相沉积法生长的氮化镓的等离子体相关氧污染的研究
机译:微波等离子体增强化学气相沉积法制备氮化硅晶体薄膜
机译:保形氮化硅碳和氮化硅膜的低温等离子体增强化学气相沉积
机译:等离子体增强化学气相沉积法沉积MIM电容器中的硅氮化物或硅氧氮化物
机译:用于沉积硅氮化物或硅氧氮化物的等离子体增强化学气相沉积方法,制备一层这样的层排列的方法以及层排列
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