提高100织构金刚石薄膜相组成纯度的工艺方法

摘要

针对目前获得的[100]织构金刚石薄膜大多存在非金刚石相含量较多、从而导致薄膜电阻率不高的欠缺,采用两种改进的微波等离子体化学气相沉积(MWPCVD)工艺,即用形核-刻蚀-生长法和形核-刻蚀-生长-刻蚀-生长……循环沉积法,制备出了相组成纯净度较常规沉积工艺显著提高的[100]织构金刚石膜。SEM和XRD分析表明所获得的膜材均具有[100]的择优取向,是[100]织构膜;Raman光谱和SEM对照分析证实膜材中的非金刚石相含量显著降低,尤其是后者的Raman光谱中已无非金刚石相峰存在,表明得到的是一种高纯度的[100]织构金刚石薄膜。通过改进沉积工艺技术制备高纯的[100]织构膜是一种简便有效的获得高质量金刚石薄膜的技术途径。