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周立兵; 刘文; 吴国阳;
武汉邮电科学研究院;
反应离子刻蚀; 硅基二氧化硅光波导; 三维神经网格;
机译:在玻璃干法刻蚀过程中由金属籽晶层控制的自掩膜,以实现光散射表面
机译:使用NH4Cl水溶液对ZnO:Al膜进行刻蚀的工艺优化,以有效捕获柔性薄膜太阳能电池中的光
机译:红外吸收光谱法的二氧化硅高台膜波导的光分布评价
机译:使用TETRA〜(TM)光电掩膜刻蚀系统的汽车工艺对DUV ALTA〜(〜R)模式生成系统进行集成和优化
机译:在使用Langmuir探针和光发射光谱法的深反应离子刻蚀系统中,等离子体表征和刻蚀速率以及通孔侧壁角度相关。
机译:在人工耳蜗和模拟人工耳蜗听觉中使用各种掩膜器的语音理解:频谱分辨率的影响以及掩膜释放的含义
机译:用多层掩膜通过超导Bi2212的反应离子束刻蚀制造太赫兹发射台面
机译:双谐振光参量振荡器的优化
机译:得出光掩膜图案刻蚀校正值的方法和制造光掩膜的方法
机译:干刻蚀装置,干刻蚀方法和光掩膜制造方法
机译:用于光掩膜的等离子体刻蚀装置及其刻蚀方法
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