SU-8胶曝光衍射效应的模拟及丙三醇补偿方法

朱真; 黄庆安; 李伟华; 周再发; 冯明

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SU-8胶曝光衍射效应的模拟及丙三醇补偿方法

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基于SU-8胶的UV-LIGA技术是MEMS中制备高深宽比结构的一种重要方法,但由于衍射效应会使结构的侧壁不再垂直.根据菲涅耳衍射模型,考虑了丙三醇/SU-8界面的反射和折射现象,模拟了丙三醇填充在掩膜版和光刻胶之间时的刻蚀图形.计算结果与已有的实验进行了比较,模型基本可以描述这种光刻过程,可在设计时作为参考.

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来源
《半导体学报》 |2007年第12期|2011-2017|共7页
作者
朱真; 黄庆安; 李伟华; 周再发; 冯明;
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作者单位

东南大学MEMS教育部重点实验室;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类半导体器件制造工艺及设备;
关键词
SU-8胶; 菲涅耳衍射; 丙三醇;

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