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李映雪; 李玉铭; 李山东;
北京大学微电子学研究所;
哈尔滨科技大学基础部;
哈尔滨科技大学技术物理系;
Ti/SiO2/Si; 微量氧; 氮气; 退火;
机译:Ti薄膜中溶解氧对Cu / Ti / SiO_2 / Si体系退火后Ti反应的影响
机译:Ti(30 nm)/ Si(100),[(Ti + Si)200 nm] / Si(100),Ti(200 nm)/ Si(100)和[Ti(3 nm)的纳米级薄膜系统中的相形成过程真空和氮气流中退火后))/ Si(6.7,nm)] _(20)/ Si(100)
机译:GEANT4 MicrodoSimetry和二级电子发射仿真的物理过程:微量电池扩展到非常低的能量和11材料(C,Al,Si,Ti,Ni,Cu,Ge,Ag,W,Kapton和SiO_2)
机译:溅射过程中基质温度,退火温度和氢的存在对掺Eu纳米Si / SiO_2发光强度的影响
机译:薄Si薄膜的斑点退火
机译:使用去合金和阳极氧化的Ti-Ni-Si非晶态合金薄带超级电容器的充电/放电特性
机译:使用射频磁控溅射在$ Pt / Ti / SiO_2 / Si $衬底上沉积的$ CaCu_3Ti_4O_ {12} $薄膜的沉积和介电特性
机译:si *(100)上Co / Ti双层退火过程中Cosi(sub 2)形成的原位X射线衍射研究
机译:镧系元素的氧-氮络合物,包含所述氧-氧-氮络合物的催化体系和共轭二烯的(共)聚合过程
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