抛光和自上釉对陶瓷表面平滑度的影响

摘要

目的:比较研究抛光和自上釉这两种不同的陶瓷表面处理方法,对陶瓷表面平滑度产生的影响.方法:分别以SEM和粗糙度测试仪,对抛光组和自上釉组的试件表面进行定量测试分析.试件的制作及处理均按照临床所用的常规方法.结果:SEM观察表明抛光组的平滑度与自上釉相似.经粗糙度测试仪测得的Ra值,抛光组为0.412 μm,自上釉组为0.417μm.两者比较未见显著性差异(P＞0.05),且SEM的检查与Ra值的测定具有一致性.结论:采用抛光处理可以获得与自上釉相同平滑度的陶瓷表面.