大扁杏组培基本培养基与培养条件的优化研究

摘要

以大扁杏龙王帽为材料,研究了外植体消毒、基本培养基、取材部位和培养条件等因素对组培苗生长的影响。结果表明,采用1g／LHgCl2与20 g／LNaHCO3按体积比1:1混合的消毒合剂处理外植体8min,灭菌成功率可达98％;以改良的MS(1／2 NH4NO3)培养基为基本培养基,适合大扁杏的分化培养;最适外植体为茎尖; 最佳培养条件为温度25-27℃,光照强度2000-3000lx,pH 5．6-5．8。