Si_3N_4陶瓷材料的氧化行为及其氧化机理

摘要

采用氧化后再氧化的实验方法，通过对 Ｓｉ３ Ｎ４ 陶瓷材料氧化行为的研究和氧化动力学的分析，讨论了 Ｓｉ３ Ｎ４ 陶瓷材料的氧化机理。结果表明， Ｓｉ３ Ｎ４ 陶瓷材料的氧化行为表现为氧化增量随时间的变化服从抛物线规律：（Δ Ｗ ）２ ＝ Ｋｐ ｔ 。提出了氧在氧化层中的向内扩散是 Ｓｉ３ Ｎ４ 氧化过程中的控制步骤；并认为烧结添加剂或杂质等对 Ｓｉ３ Ｎ４ 陶瓷材料氧化速度的影响，是通过改变氧化层的组成、结构，使氧在氧化层中的扩散速度发生变化而产生的。