石英光纤表面化学镀Ni-P的工艺研究及其表征

摘要

以Ni-P镀层与裸光纤表面的结合力和Ni-P沉积速度为双目的指标,采用正交实验法分别考察了NiSO4.6H2O、NaH2PO2.H2O、C3H6O2、H3BO3浓度、pH值和温度对石英光纤表面化学镀Ni-P的影响,并确定了它们的优化条件分别为:35 g.L-1,32 g.L-1,20 mL.L-1,28g.L-1,pH5和84℃。考察了粗化时间对镀层质量的影响。用扫描电镜(SEM)、体视显微镜(SM)、等离子发射光谱仪(ICP)和X-Ray衍射仪(XRD)对镀层的形貌、组成和结构进行了表征和分析。结果表明,在选定的光纤表面预处理条件和最优的化学镀条件下,Ni-P镀层表面平整光亮,结合力好,热震后无起泡和脱落现象发生。