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ELECTROLESS Ni-P PLATING LIQUID AND ELECTROLESS Ni-P PLATING METHOD

机译:化学镀Ni-P的液体和化学镀Ni-P的方法

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electroless Ni-P plating liquid and a plating method for favorably incorporating CNT having a large size such as VGCF (R) into a plating film.;SOLUTION: In the electroless Ni-P plating liquid, a trimethylcetyl ammonium salt, preferably trimethylcetyl ammonium chloride, is used as a dispersant of VGCF (R) (commercially available carbon nanotube in a large size about 150 nm in diameter and 10 to 20 μm in length) in the plating liquid. The plating method for Ni-P plating is implemented by using the plating liquid.;COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
机译:解决的问题:提供一种化学镀Ni-P的电镀液和一种电镀方法,以将诸如VGCF(R)之类的大尺寸的CNT良好地结合到镀膜中。在电镀液中,使用三甲基十六烷基铵盐,优选三甲基十六烷基氯化铵作为VG​​CF(R)(直径约150nm,长度约10至20μm的大尺寸的市售碳纳米管)的分散剂。 Ni-P电镀的电镀方法是通过使用电镀液来实现的。版权所有:(C)2010,JPO&INPIT

著录项

  • 公开/公告号JP2010215977A

    专利类型

  • 公开/公告日2010-09-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SHINSHU UNIV;

    申请/专利号JP20090065049

  • 发明设计人 ARAI SUSUMU;

    申请日2009-03-17

  • 分类号C23C18/16;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 19:04:04

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