首页> 中文期刊> 《材料工程》 >CeO2掺杂TiO2催化剂薄膜的制备与表征

CeO2掺杂TiO2催化剂薄膜的制备与表征

         

摘要

以Ar为工作气体,O2为反应气体,利用射频磁控溅射技术成功地在载玻片上沉积了透明TiO2催化剂薄膜.同时利用共溅射技术制备了掺杂CeO2的TiO2催化剂薄膜.采用X射线衍射(XRD)、Raman光谱、UV-VIS-NIR分光光度计、原子力显微镜(AFM)对薄膜进行了结构和形貌表征.

著录项

  • 来源
    《材料工程》 |2003年第11期|22-24|共3页
  • 作者单位

    北京航空航天大学材料物理与化学研究中心,北京,100083;

    北京航空航天大学材料物理与化学研究中心,北京,100083;

    北京航空航天大学材料物理与化学研究中心,北京,100083;

    北京航空航天大学材料物理与化学研究中心,北京,100083;

    北京航空航天大学材料物理与化学研究中心,北京,100083;

    北京航空航天大学材料物理与化学研究中心,北京,100083;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 稀有金属及其合金;
  • 关键词

    TiO2薄膜; CeO2掺杂; 共溅射;

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号