有机半导体NPB空穴迁移率的快速确定

摘要

以典型有机半导体材料——胺类衍生物NPB(N,N'-diphenyl-N,N'-bis(1-naphthyl)(1,1'-biphenyl)-4,4'diamine)为空穴传输层,采用MoO3为阳极缓冲层制备结构简单的只有空穴传输的单载流子器件.以空间电荷理论为基础,利用从器件电流-电压关系变换而来的一个特殊而简单的函数确定出电场强度在600～1 000 V1/2 cm-1/2时,NPB空穴迁移率位于1.1×10-5～3.5×10-4 cm2 V-1 s-1,这与文献报导采用其他方法得到的结果接近,表明这是一种简单而有效的确定有机半导体载流子迁移率的方法,同时也表明MoO3为阳极缓冲层可在ITO/NPB间形成良好的欧姆接触.