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彭春; 杨学弦; 黄勇刚; 王小云; 彭金璋;
吉首大学物理与机电工程学院 湖南吉首416000;
半导体; 层状材料; 热膨胀系数; 晶格常数; 热应变; 温度;
机译:在2D金属/半导体界面中调整P型肖特基屏障:MOSE2和WSE2上的硼 - 纸张
机译:MoS2,MoSe2,WS2和WSe2晶体中直接光学跃迁以及半导体到金属跃迁的压力系数
机译:电合成制备层状半导体(MoSe2)
机译:MoSe2 / WSe2 Van der Waals异质结构中间接激子的电压控制远距离传输
机译:MoSe2和WSe2晶体的生长和完善的研究。
机译:校正:G. Papari等。非晶WSe2和MoSe2薄膜的太赫兹光谱。材料2018111613
机译:(PbSe)0.99 m WSe2 n,(PbSe)1.00 m MoSe2 n和(SnSe)1.03 m MoSe2 n错配层状化合物的结构研究
机译:二次离子质谱法定量分析层状半导体的逐点矩阵效应校准
机译:物理,热学,热学或热学水状况及其后续产品及其制造
机译:物理,热学,热学或热学和放射状主动加热的水加热材料及其用途
机译:层状半导体装置的层间填充物用组合物,层状半导体装置及层状半导体装置的制造方法
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