掺银ITO薄膜退火前后的性能比较

摘要

采用直流磁控溅射方法在室温下制备厚度为130 nm的ITO和Ag-ITO薄膜,并在大气环境中不同温度下退火1 h,测试其XRD谱和近紫外-可见光透射谱. 利用(211)和(222)衍射峰求得两种薄膜的晶格常数,并分析了掺Ag和退火对ITO薄膜晶格常数、结晶度和透射率的影响. 结果表明: 晶格常数随退火温度的升高而减小,且掺Ag后晶格进一步收缩;两种薄膜经高温退火后在可见光段具有相近的透射率,未退火和低温退火的Ag-ITO薄膜透射率明显低于相同条件处理的ITO薄膜.