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电流密度对电沉积纳米晶铜工艺及显微组织的影响

         

摘要

采用扫描电镜、透射电镜、X射线衍射等分析手段,研究了电流密度对直流电沉积纳米晶铜的沉积速率、电流效率、微观结构和硬度的影响.结果表明:随着电流密度的增加,沉积速率明显升高,电流效率下降.当电流密度为3.2 A/dm2时,可得到表面光亮致密的沉积层,平均晶粒尺寸为24 nm,并具有明显的(111)织构.此时纳米晶铜的显微硬度可达HV297,约为粗晶铜硬度的6倍.

著录项

  • 来源
    《吉林大学学报(工学版)》 |2007年第5期|1074-1077|共4页
  • 作者单位

    吉林大学,材料科学与工程学院,长春,130022;

    吉林大学,汽车材料教育部重点实验室,长春,130022;

    吉林大学,材料科学与工程学院,长春,130022;

    吉林大学,汽车材料教育部重点实验室,长春,130022;

    吉林大学,材料科学与工程学院,长春,130022;

    吉林大学,汽车材料教育部重点实验室,长春,130022;

    吉林大学,材料科学与工程学院,长春,130022;

    吉林大学,汽车材料教育部重点实验室,长春,130022;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 TG174.441;
  • 关键词

    材料检测与分析技术; 电流密度; 电沉积; 纳米晶; 铜;

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