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李晓莉; 谢方艳; 龚力; 张卫红; 于晓龙; 陈建;
海南大学材料与化工学院,海南海口570228;
中山大学测试中心,广东广州510275;
氧化铜; 氩离子刻蚀; X射线光电子能谱; 还原;
机译:XPS对离子束刻蚀和反应离子束辅助化学刻蚀处理的单晶金刚石芯片损伤评估的研究
机译:锂离子和钠离子电池转换材料的反应机理和表面膜形成:溅射氧化铜(CuO)薄膜模型电极的XPS案例研究
机译:氩等离子体感应耦合等离子体反应离子刻蚀研究在光滑侧壁薄膜铌酸锂波导中的应用
机译:使用在InGaAs / InGaAsP激光结构上的反应离子刻蚀系统中生成的氩等离子体产生的量子阱混合
机译:通过线性扫描伏安法,恒电流还原法,XPS和SEM表征通过热,等离子体和电化学方法形成的氧化铜
机译:使用纳米球刻蚀,软刻蚀和等离子刻蚀制造的等离子纳米结构
机译:五氧化二钽单原子和团簇氩离子溅射的XPS研究
机译:用氩(ar),四氟化碳(CF4)和六氟化硫(sF6)混合物反应离子刻蚀钛酸锶钡薄膜的研究
机译:等离子刻蚀方法,等离子刻蚀装置,能够使用氟类抗氩剂作为掩模来刻蚀包含硅的抗反射膜以及计算机存储介质
机译:通过化学反应清洗过程和高压等离子氩溅射刻蚀工艺形成接触结构的方法
机译:连续从氧化铜氧化铜矿石中还原氧气的火法冶金方法,包括注液,填充床中的还原剂,用热气还原铜中的氧气,抽空铜
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