后接枝法合成氨丙基修饰的周期性介孔氧化硅材料

摘要

以三氯甲烷为溶剂,氨丙基三甲氧基硅烷(APTMS)为修饰剂通过后接枝法对周期性介孔氧化硅材料(PMOS)进行修饰.通过固态NMR,氮气吸附、元素分析和UV-vis吸光度测试等手段来表征材料.结果表明,氨丙基基团通过共价连接的方式成功修饰到PMOs材料.尽管随着APTMS修饰量的增加,比表面积、孔容和孔径都呈下降趋势,但经25%APTMS修饰的PMOs材料依然具有良好的介孔结构,其表面积为604m2·g-1,孔容为0.62cm3·g-1,孔径狭窄分布在4.5～5.0nm之间.修饰后的PMOs对氯金酸有明显的吸附作用.