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活性钎焊法连接碳化硅陶瓷的连接强度和微观结构

         

摘要

采用三元Ag-Cu-Ti活性焊料连接常压烧结碳化硅陶瓷,研究了反应温度、保温时间等钎焊工艺对碳化硅陶瓷连接强度的影响,分析了连接界面的微观结构和反应产物.实验结果表明,在实验范围内,钎焊温度和保温时间对碳化硅陶瓷的连接强度均有峰值,四点弯曲强度最高达到342MPa,随着钎焊温度的升高,界面反应层厚度增加,连接强度提高,但过高的钎焊温度引起焊料的挥发而使连接强度下降.焊料中的活性元素Ti与碳化硅发生反应在连接界面形成均匀致密的反应层,反应层厚度约1μm,XRD和EDX能谱分析结果表明反应产物是TiC和Ti5Si3.

著录项

  • 来源
    《无机材料学报》 |2009年第2期|297-300|共4页
  • 作者单位

    中国科学院,上海硅酸盐研究所,上海,200050;

    中国科学院,研究生院,北京,100049;

    中国科学院,上海硅酸盐研究所,上海,200050;

    中国科学院,上海硅酸盐研究所,上海,200050;

    中国科学院,上海硅酸盐研究所,上海,200050;

    中国科学院,研究生院,北京,100049;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 钢;
  • 关键词

    Ag-Cu-Ti焊料; 碳化硅; 连接强度; 微观结构;

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