具有高斯横向分布的环形染料腔中带模型下的光学双稳性

摘要

利用带模式理论研究了环形腔染料激光器中的光学双稳性，使用了真空的高斯横模腔场分布，并将所得到的结果分别与使用平面波近亿下的带模型结果以及单横模近似下的二能级模型结果进行了比较。