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凹型Si微透镜阵列的制作

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摘要

提出了一种新的曲率倒易法首次成功地在Si衬底上制作出64×256凹柱面折射微透镜阵列,扫描电子显微镜(SEM)显示微透镜阵列为表面轮廓清晰的凹柱面阵列,表面探针测试结果显示凹微透镜阵列表面光滑、单元重复性好,其平均凹深为2.643μm,凹深非均匀性为8.45%,平均焦距为-47.08μm.

著录项

来源
《红外与毫米波学报》 |2002年第1期|33-36|共4页
作者
何苗; 易新建; 程祖海; 刘鲁勤; 王英瑞;
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作者单位

华中理工大学激光技术国家重点实验室,湖北,武汉,430074;

华中理工大学激光技术国家重点实验室,湖北,武汉,430074;

华中理工大学激光技术国家重点实验室,湖北,武汉,430074;

中国航天总公司二院25所,北京,100854;

中国航天总公司二院25所,北京,100854;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类光电子技术、激光技术;
关键词
Si; 凹微透镜阵列; 氩离子束刻蚀;

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