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光学滤波片薄膜镀制工艺中的监控技术模拟分析

     

摘要

在窄带滤波器件的研制过程中,模拟分析了采用极值法对膜层厚度进行光学监控及其偏差对滤波器件光学特性的影响,并给出了一个4腔DWDM滤波片的理想工艺曲线以及模拟计算所得到光学特性的分布曲线,计算结果有利于指导高品质薄膜器件的研制,并研制出符合工业应用标准要求3腔和4腔的100GHz、200GHz的DWDM滤波片以及CWDM滤波片.

著录项

  • 来源
    《红外与毫米波学报》|2003年第1期|56-58|共3页
  • 作者单位

    复旦大学光科学与工程系,先进光子学材料与器件国家重点实验室,上海,200433;

    复旦汇成先进光电子器件联合实验室,上海,200433;

    复旦汇成先进光电子器件联合实验室,上海,200433;

    复旦大学光科学与工程系,先进光子学材料与器件国家重点实验室,上海,200433;

    复旦大学光科学与工程系,先进光子学材料与器件国家重点实验室,上海,200433;

    复旦大学光科学与工程系,先进光子学材料与器件国家重点实验室,上海,200433;

    复旦大学光科学与工程系,先进光子学材料与器件国家重点实验室,上海,200433;

    复旦大学光科学与工程系,先进光子学材料与器件国家重点实验室,上海,200433;

    复旦汇成先进光电子器件联合实验室,上海,200433;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 光电子技术、激光技术;
  • 关键词

    光通信; 窄带通滤波器件; 实时监控; 模拟分析;

  • 入库时间 2023-07-25 20:02:35

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