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刘艳红; 刘祖黎;
华中理工大学物理系;
MPCVD; 磁镜场; 薄膜; 二氧化锡薄膜; 导电性;
机译:退火工艺对SnO2 / Ag / SnO2纳米多层薄膜电学和光学性能的影响
机译:Al,Ga掺杂对非晶ZnO-SnO2薄膜透明导电性能的影响
机译:通过脉冲注入金属有机化学气相沉积法沉积的透明导电CuCrO2薄膜:可升级的工艺技术,以改善透明性/导电性
机译:等离子体处理和SnO2合金化对化学气相沉积在C蓝宝石上沉积的外延Ga2O3薄膜导电性能的影响
机译:低成本生长可持续掺氟的SnO2薄膜作为场发射照明的透明导电电极
机译:SnO2纳米结构:工艺参数对其结构和功能特性的影响
机译:工艺对喷雾沉积SnO2:F薄膜电性能的影响
机译:Nb上金属氮化物和金属碳化物薄膜的表面特性研究射频超导电性
机译:具有半导体特性的导电性高分子薄膜的制造方法以及具有半导体特性的具有导电性高分子薄膜的薄膜晶体管
机译:具有半导电性能的导电性高分子薄膜的制造方法和具有半导电性的导电性高分子薄膜的薄膜晶体管
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